Regione Asia-Pacifico (APAC)

Fabbrica di wafer da 300 mm a Shanghai

Descrizione: Fonderia di wafer da 300 mm
Posizione: Shanghai, Cina continentale
Ambito di applicazione di Exyte: EPC per la costruzione della base

Caratteristiche principali

 

  • La prima fabbrica greenfield diHLMC’
  • Tecnologia da 28nm a 14nm  
  • Area totale dell'edificio: 130.000m²
  • Area totale della camera bianca: 34.000 m² 
  • Classi della camera bianca: ISO 5 & 6 (classe 100 & 1k) 
  • Responsabilità generale per gli interni della camera bianca, gli interni dell'ufficio/laboratorio, HVAC, meccanica, sistema di condizionamento della camera bianca, sistema di scarico del processo, tubazioni di processo, impianto elettrico, FMCS ecc.
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